Фаундри
Дорожная карта технологических процессов Wafer Foundry интегральных микросхем
2P5M SOI 8" 1,8/3,3/100V |
2P3M SOI 8" 33/5/20-120V |
2P3M SOI 6" 3,3/5/60-150V |
2P2M SOI 6" 3,3/5/300V |
|||||
BCD | ||||||||
1P4M Si 12" 3.3/5/30V |
2P5M Si 8" 1,8/3,3-5/ 12-50V |
2P5M Si 8" 2,5l3,3/8-100V |
2P3M Si 8" 3,3/5-12/ 40-700V |
2P3M Si 6" 3.3/5/8-40V |
2P3M Si 6" 3.3/5/40V |
|||
2P3M SOI 6" 5/12/60V |
||||||||
CDMOS | ||||||||
2P5M Si 8" 1.8/5/24V |
2P4M Si 8" 2,5I3,3/100V |
2P3M Si 8" 33/5/30-100V |
2P3M Si 6" 5/12-600V |
2P3M Si 6" 3.3/5/300V |
||||
2P6M SiGe12" 1,2/3,3V |
2P5M SiGe12" 1,8/3,3V |
2P4M SiGe 8" 2,513,3V |
2P4M SiGe 8" 3,3/5V |
2P3M SiGe 6" 3.3-5/65V |
||||
BiCMOS | ||||||||
2P4M Si 8" 2.3/3,3-30V |
2P4M Si 8" 3,3/5-40V |
2P3M Si 6" 3.3/5-40V |
2P2M Si 6" 5/30V |
|||||
2P10M SOI 12" 12/2.5/5V |
2P9M SOI 12" 12/2.5/5V |
2P6M SOI 8" Rad Hard 1,8/2,5/3,3V |
2P5M SOI 8" Rad Hard 1,8/3,3/5-40V |
2P3M SOI 8" Rad Hard 2,5/3,3/5,5-60V |
2P4M SOI 8" Rad Hard 2,5/3,3/5-65V |
2P3M SOI 6" Rad Hard 3.3/5/250V |
2P2M SOI 6" Rad Hard 3.3/5/300V |
|
CMOS | ||||||||
2P5M SiGe 8" 1.8/3.3V |
2P4M SiGe 8" 2,513,3V |
2P4M SiGe 8" 3,3/5V |
||||||
2P9M Si 12" 1,0-1,2-1,5 1,8-2.5-3.3V |
2P9M Si 12" 1,0-1,2/1,8-3,3/ 5-30V |
2P6M Si 8" 1,2/2,5/3,3/ 5-12V |
2P6M Si 8" 1,8/3,3/5-32V |
2P5M Si 8" 2,5I3,3/18-40V |
2P4M Si 8" 3.3/5V |
2P3M Si 6" 3,3/5/12-120V |
2P2M Si 6" 3.3/5/12-120V |
|
65 nm | 90 nm | 0,13-0,15 µm | 0,18 µm | 0,25 µm | 0,35 µm | 0,5-0,6 µm | 0,8 µm |
Проектные нормы
Примеры сокращений:
- 1,8/ 3,3/5-40v - рабочее напряжение
- 2 P6M - 2 поликремния, 6 уровней металла
- Si, SiGe - материал подложки или эпипленки
- SOI - кремний на изоляторе
- 8" - диаметр пластин
- RadHard - радиационно стойкая технология
Дорожная карта технологических процессов Wafer Foundry силовой и СВЧ электроники
HF Power MMIC | GaAs, GaN 6" до 80 GHz |
GaAs, GaN 6" до 60 GHz |
GaAs, GaN 4-6" 30 GHz |
||
RF DMOS | SiC 4" 11-15db до 2,7 GHz |
SiC 2-4" 10-14 db до 2,5 GHz |
|||
GaN, GaAs 6-8" до 55 GHz |
GaN, GaAs 6-8" до 40 GHz |
GaN, GaAs 6-8" до 35 GHz |
GaN, GaAs 6" 12-18 db до 22 GHz |
GaN, GaAs 4-6" 12-15db до 6 GHz |
|
Si 8" до 30 db до 3,8 GHz |
Si6-8" 14-25 db до 3,5 GHz |
Si6" 14-20 db до 3 GHz |
Si 4-6" до 20 db до 1 GHz |
||
IGBT | SiC 2-4" св. 10kv |
||||
Trench Si 6-8" 600-2000v |
Trench Si 6" 600-1200v |
Trench Si 4-6" 600-1200v |
|||
Planar Si 4-6" 400-2000v | |||||
MOSFET | SiC 2-4" 600-10000v |
||||
SOI 6" Tj = +225 °C Low Ir |
|||||
Trench Si 6-8" 20-100v |
Trench Si 6" 20-100v |
Trench Si 4-6" 20-100v |
|||
Planar Si 4-6" 60-1200v |
Planar Si 4-6" 60-1200v |
||||
Sсhottky | SiC 2-4" 200-1200v |
||||
GaN, GaAs 4-6" до 1200v |
|||||
Trench Si 6" 60-100v |
Trench Si 4-6" 60-100v |
||||
Planar Si 4-6" 20-300v | |||||
0,15 mkm | 0,25 mkm | 0,35 mkm | 0.5-0,6 mkm | 0,8 mkm |
Проектные нормы
Примеры сокращений:
- Planar Si – кремниевая технология
- Trench Si – щелевая технология на кремнии
- 60-1200 V – пробивное (рабочее) напряжение
- SOI – кремний на изоляторе
- Фаундри
- Сборка
- Поставка оборудования
- Поставка материалов
- Поставка корпусов для ИС, СВЧ и п/п приборов
- Контактирующие устройства
- Разработка интегральных микросхем и полупроводниковых приборов